三款超高端光刻设备启程交付
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在半导体产业加速推进先进制程的背景下,荷兰设备制造商的尖端高数值孔径极紫外光刻系统正逐步实现量产。最新数据显示,全球已有4家客户启用了10套此类系统,另有3套正处在运输与安装阶段。这些单价高达4亿美元(约合人民币27亿元)的高端设备正在重塑行业格局。
作为技术领跑者,英特尔已将该系统应用于代号"Panther Lake"的部分酷睿Ultra三代处理器批量化生产。这款采用Intel 18A工艺制造的产品,成为首个运用该尖端技术实现量产的逻辑芯片产品。据悉,高数值孔径极紫外系统累计处理的晶圆数量已突破135万片。最新通过认证的EXE:5200B系统在测试中展现出每小时135片晶圆的处理效率,达到了规模生产所需的产能标准。
制造商同时公布了多代产品的发展路线图。按照AB模式规划,到2030年前,各型号的产能将稳步提升:EXE:5200B预计达到每小时135片,后续版本将逐步提升至180片。更先进的AA模式下,产能预计可突破210片/小时。更值得注意的是,更高性能的EXE:5600系统正在研发中,目标产能超越每小时250片,但具体量产时间尚未透露。
该项技术在存储芯片领域同样展现巨大潜力。其卓越的成像性能可支持多达五个未来2D DRAM工艺节点的演进,这将极大地推动存储技术的发展。相较于传统0.33-NA系统,0.55-NA平台具备显著优势:更高的分辨率意味着可以实现单次曝光完成更多层图案化作业,有助于简化工艺流程、减少缺陷发生率,并最终降低整体制造成本。
产业动态方面,SK海力士将在2025年下半年率先安装用于量产开发的高数值孔径系统,该公司已在M16工厂配置了EXE:5200B设备。而三星目前尚未公布存储芯片领域的具体应用规划,但计划在2030年左右量产的1nm逻辑工艺中采用这项前沿技术。
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